技术编号：34751515
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及化学气相沉积镀膜技术领域，尤其涉及一种化学气相喷淋进气装置及镀膜设备。背景技术.原子层沉积(ald，atomic layer deposition)是利用气相前驱物通入反应器并沉积于待镀基体上通过化学吸附及反应形成沉积膜，具有镀膜厚度均匀、一致性高的特点，相关技术中，前驱物通过进气结构中的气道及气孔喷淋至待镀基体，进气结构为一整块板状构件，并通过钻孔等整体机加工的方式加工出气道与气孔，气道及气孔内壁的表面质量差，导致气体以及气体反应产生的颗粒残留于进气结构内，气孔及气道容易堵...
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