技术编号：34822655
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及半导体生产领域，具体为一种半导体陶瓷浆料除铁去杂质的装置。背景技术.在半导体陶瓷浆料制备过程中。浆料的纯度对后期产品性能有举足轻重的影响，生产环境，设备状态，粉料的完整性及洁净度，操作规范等都可能会引入杂质，杂质的引入往往会造成产品缺陷及产生报废，极大地影响了生产质量和效率。而简易的杂质去除方式不仅效率低而且还会造成二次污染，影响员工的身心健康。.现有公开号为cna的中国专利，其公开了一种半导体用碳化硅微粉除铁装置，包括主箱体，主箱体内部一侧固定安装有气泵，主...
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