技术编号：34857299
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本申请涉及但不限于半导体制造设备技术领域，尤其涉及一种冷却系统及其使用方法。背景技术.在半导体器件的制造过程中，机台的反应腔室内的温度对制造工艺影响较大，因此对冷却系统有很高的要求。冷却系统中，冷却水通过冷却管流至机台反应腔室附近，通过水循环能够带走部分多余热量，水的比热容较大能够稳定温度，机台的冷却水配合加热组件共同保持反应腔室内的温度稳定。但是，冷却系统中的冷却水流量不稳定，影响机台反应腔室内的器件的冷却效果，对制程中的半导体晶圆或者衬底造成影响，甚至缩短半导体器件的使用寿命。发明内容...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。