技术编号：34995267
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明属于石英坩埚厚度测量技术领域，具体涉及一种双层复合石英坩埚透明层厚度检测方法。背景技术.拉制单晶硅必须使用双层复合石英坩埚，双层复合石英坩埚作为一种消耗性器皿，对双层复合石英坩埚的外观要求十分严格，出厂前要对其尺寸、外观等参数进行严格地检查，否则会严重影响单晶硅生产质量。随着半导体工业对单晶硅的需求量与日俱增，双层复合石英坩埚的需求量也有显著增加。双层复合石英坩埚的双层结构为透明层与不透明层，透明层存在少量气泡，拉制单晶硅的生产过程中，双层石英坩埚的透明层会受到不同的化学物质侵蚀，因...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。