技术编号:35044454
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及基片支承部和等离子体处理装置。背景技术.一直以来,在等离子体处理装置中,为了保持基片而使用进行静电吸附的静电吸盘。在静电吸盘内设置静电吸附用的电极,通过从直流电源对该电极施加电压来吸附静电吸盘上的基片。另外,在等离子体处理装置中,为了供给偏置功率,例如将高频电源连接到支承静电吸盘的电介质膜的基材(专利文献)。另外,为了供给偏置功率,例如,在电介质膜内部设置内周部电极和外周部电极,将高频电源连接到内周部电极和外周部电极(专利文献)。.现有技术文献.专利文献.专利文献:美...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。