技术编号:3505787
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及对显示器的制造工序等中生成的废有机溶剂进行提纯(Purify),以高回收率回收丙二醇甲醚醋酸酯(Propylene glycol monomethyl ether acetate)的方法。背景技术在像半导体和TFT-1XD等显示器的制造工序中,为了制作电子电路、像素等,广泛使用光刻(lithography)。这种光刻是用于在基板上生成微图案的方法,其是这样的工序借助印刷有所期望的图案的掩膜,在涂布有感光性物质-光刻胶(photoresist)的基...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。