技术编号:35130920
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本申请涉及半导体行业中对基板清洗的领域,尤其是涉及一种等离子体清洗设备。背景技术.等离子体清洗设备是一种除去基板表面的有机物的装置,利用其喷出的等离子体与基板表面的有机物结合,将有机物氧化分解成水和二氧化碳。.现有授权公告号为cnb的中国专利,公开了一种等离子清洗设备。该清洗设备包括用于产生等离子体的腔体和使等离子体向基板喷出的挡板结构,挡板结构包括至少两个设置有多个喷孔的挡板,相邻挡板上的喷孔相互交错。该清洗设备通过使挡板结构中相邻挡板上的喷孔相互交错,提高了不同等离...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。