技术编号:35159116
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及晶圆清洗领域,尤其涉及一种独立的晶圆清洗液供给装置。背景技术.随着市场的不断发展,对于键合设备的产能要求也不断的提高,其内部配套的清洗设备的效率也成了提高产能的瓶颈之一。因此,需要多个清洗机构,才能达到产能要求。.现有技术中,清洗液供给装置与清洗机构一一对应,即,一个清洗机构对应一个清洗液供给装置,元器件重复率极高。.此外,现有技术中,清洗机构与清洗液供给装置均在一个清洗模块当中,在多个清洗模块同时布置时,空间狭小难以维护,在多个清洗模块同时布置时,元器件重复率极高且清洗供给...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。