技术编号：3536070
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。塔式反应装置锡花为原料生产微电子用甲基确酸亚锡本发嘴涉及一稀雜生产嫌电子用超净高纯甲MMfell锡的方法，簾于超 净高纯徵电子化学暴有机合成^域。背录技术国外发达国家加世纪櫞年代雜采用甲基麴醱钵系的先进电镇工艺，该工 艺显著地據翁镀层饞可錄性，结晶的细致均匀性,长期储存不产生晶须。它是目 前最先进的ic引,镀方法，也是生产小间距多脚的中髙档ic必须,的电 镀工艺路线。它不仅^H餍瀵最有根本改变雨且能有效地控制晶须的成长和大小，因此 可以满足离a^Jl饞半导...
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