技术编号：35457366
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及真空处理装置，更具体而言，涉及用于在真空气氛中对被处理基板实施规定的处理的装置。背景技术.这种真空处理装置用于在真空气氛中对被处理基板实施溅射法、真空蒸镀法或cvd法的成膜处理、干蚀刻处理、离子注入处理或热处理这类各种真空处理。例如，在平板显示面板制造工序中通过溅射法对大面积的玻璃基板实施成膜处理的溅射装置具备真空室，在真空室上连接对其内部进行真空排气的真空泵，并且在真空室内设置有安装了被处理基板的台架。在台架上设置有旋转轴，台架绕旋转轴线在设置有被处理基板的台架的主面朝向铅直方...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。