技术编号：35484149
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及抛光技术领域，具体涉及一种支撑平台和磁流变抛光设备。背景技术.磁流变抛光设备是利用磁流体抛光液进行抛光的设备，可以在磁场的精确控制下进行高精度的抛光工作，抛光精度通常可以达到微米级，使得磁流变抛光设备是一种精密抛光设备。.现有的磁流变抛光设备通常包括机架(或称为支撑平台)、安装于机架的磁流变抛光头以及相关的控制器件等，比较重，甚至会超过一顿，而且磁流变抛光头在打磨抛光过程中的也会常出现不同程度的磁流变抛光头振动。而随着技术的进步，磁流变抛光设备的集成度越来越高，功能也越来越...
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