技术编号：35577868
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。清洁装置和方法.相关申请的交叉引用.本申请要求于年月日提交的ep申请.的优先权，该申请通过引用整体并入本文。技术领域.本发明涉及一种用于从光刻装置的光学元件去除污染物的装置。本发明具有与euv光刻装置和euv光刻工具有关的特定但非排他性用途。本发明还涉及用于从光刻装置的光学元件去除污染物的方法、光刻工具以及这种装置或方法在光刻装置或光刻过程中的用途。背景技术.光刻装置是一种被构造为将期望图案施加到衬底上的机器。光刻装置可以用于制造例如集成电路(ic)。例如...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。