技术编号：36337097
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。垂向测量装置、垂向测量方法及光刻机技术领域.本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种垂向测量装置、垂向测量方法及光刻机。背景技术.投影光刻机是一种将掩模上的图案通过投影物镜投影到基底(如硅片)表面的设备。在光刻机的曝光过程中，如果硅片相对于投影物镜的焦平面发生离焦或倾斜，使曝光视场内某些区域处于有效焦深之外，将严重影响光刻质量，因此必须采用调焦调平系统对曝光视场内硅片的位置进行精确控制。.调焦调平系统一般采用三角测量原理实现基底表面垂向位置或面型的测量。调焦调平系统中包括扫描反射单元，利用扫描...
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