技术编号：36405448
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明属于抛光盘修正设备技术领域，具体是一种晶圆抛光盘面型修正装置及方法。背景技术.双面抛光机，主要用于晶圆的双面抛光加工，通过双面抛光加工，晶圆可获得极高的平坦度和光洁度，晶圆的平坦度主要取决于大盘的平坦度及面型，以及上下盘的吻合度。在长期使用过程中，由于应力或其他原因导致大盘的面型发生变化，大盘的平面度发生了变化，最直接的影响就是晶圆工件的平坦度和厚度一致性变差。.当出现以上情况时，通常是将抛光盘拆下或将设备整体发回厂家，有生产厂家对抛光盘重新进行研磨加工，以获得所需的精度。对于大型...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。