技术编号:36473577
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及硅片清洗技术领域,尤其涉及一种硅片清洗干燥装置。背景技术.半导体器件生产中硅片须经严格清洗,微量污染也会导致器件失效,清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物,这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面,会导致各种缺陷,清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。.如申请号为:.的中国实用新型专利,公开了一种硅片清洗干燥装置,包括清洗筒本体,所述清洗筒本体上方设置有电机、第一支撑座、第二支撑座,所述第一支撑座上方...
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