技术编号：3656477
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及可以稳定且以高抛光效率进行反射镜等光学材料及硅晶片、硬盘用玻 璃衬底、铝衬底以及一般的金属抛光加工等要求高度表面平坦性的材料的平坦化加工的 (层压)抛光垫及其制造方法。本发明的(层压)抛光垫，特别适合用于对硅晶片及其上形 成了氧化物层、金属层等的器件在进一步层压和形成这些氧化物层、金属层之前进行平坦 化的工序(粗抛光工序)。另外，本发明的(层压)抛光垫也适合在对所述材料的表面进行 精抛光时使用，特别是对硅晶片及玻璃的精抛光有用。背景技术制造半导体...
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