技术编号：3660673
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种含有POSS结构的抗原子氧聚酰亚胺杂化薄膜制备方法，涉及双氨丙基六苯基八聚笼型倍半硅氧烷(二元胺P0SS)的制备以及含有POSS结构的抗原子氧聚酰亚胺杂化薄膜的制备方法。背景技术随着科学技术的迅速发展，空间技术的发展对材料提出越来越多的要求。航天器要在低地球轨道(LEO)这种高原子氧含量的环境下进行作业而保证不被损坏，就必须具有优异的抗原子氧性能。聚酰亚胺以其优异的热性能、机械性能、耐溶剂性能和介电性能已经成为航天事业中的一类重要材料，但原子...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。