技术编号:36678923
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本技术涉及等离子体处理,尤其涉及一种等离子体处理装置。背景技术、如图与图所示,相关技术中的等离子体处理装置',往往包括具有处理腔室'的设备箱体',设于处理腔室'顶部的第一电极',设于处理腔室'底部的第二电极',以及用于驱动第二电极'升降的升降机构(图中未示出),在对面板进行覆膜时,面板设置于第二电极'的上方,处理腔室'内填充有反应气体,通过使第一电极'与第二电极'相导通,来将反应气体转变为等离子态的等离子体,以在面板的表面均匀地反应并沉...
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