技术编号:36803750
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于cvd反应器的进气机构,具有布置在排气板后方的第一气体分配容积,具有在正面从所述排气板突出的端部段的第一小管从所述第一气体分配容积伸出,所述第一小管伸入平行于所述排气板延伸的屏蔽板装置的第一通孔中,其中,所述第一通孔具有朝向所述排气板具有较大直径的第一部段以及背离所述排气板具有较小直径的第二部段,所述较大的直径大于所述端部段的外径。此外,本发明涉及一种用于这种进气机构的屏蔽板装置。此外,本发明涉及一种具有进气机构的cvd反应器,一种在cvd反应器中将由多个元素构成的层沉积在基板...
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