技术编号:36967657
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于高温应用的陶瓷基座。特别地,本发明涉及用于半导体生产工艺的包含氧化铍的基座。背景技术、在许多高温衬底处理应用中,在高温处理室中对衬底进行处理,例如,蚀刻、涂布、清洁和/或激活其表面能。为了进行处理,将加工气体引入加工室,然后通电以达到等离子体状态。该通电可通过将rf电压施加到电极(例如,阴极)并将阳极电接地以在加工室中形成电容场来完成。然后利用在加工室内产生的等离子体处理衬底以在其上蚀刻或沉积材料。、在该工艺中,衬底必须被支撑(并保持在适当位置)。在许多情况下,采用陶瓷基座来实...
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