技术编号：3698236
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。,其制备工艺和使用方法本发明涉及，其制备工艺和使用方法。背景技术具有高折射率(n)的涂层因多种应用如光学透镜、抗反射涂层、平面波导或全息 可写膜而被知晓。具有高折射率的涂层原则上可通过多种方法制备。通过纯物理途径，具 有高折射率的金属氧化物如Ti02、Ta205、Ce02、Y203在所谓"溅射工艺"中经等离子体法在高 真空下被沉积。尽管由此可毫无问题地获得在可见光波长范围内大于2. 0的折射率，但该 工艺相对复杂且昂贵。 例如，EP 0964019 Al和...
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