技术编号：3698500
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于光刻术的光敏树脂组合物引发剂，更具体地涉及一种分子中含有至少一个不饱和双键和至少一个肟酯基团的光聚合弓I发剂。 背景技术光刻术是制作液晶显示设备和半导体设备最广泛使用的方法。用于光刻术的光敏 组合物主要由一种因其对UV光的敏感性而易于生成自由基的光化反应引发剂、一种含有 两个或多个不饱和双键的可交联化合物、一种可通过碱性水溶液显影而形成薄膜的聚合粘 合剂、一种溶剂和一种或多种添加剂构成。通常的光刻术方法包括下列步骤冲洗玻璃或硅 基底；以溶...
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