技术编号：36997446
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻类设备，特别涉及一种防污染装置、防污染方法及光刻设备。背景技术、作为光刻类设备的核心组件，物镜直接决定着产品的成像质量。在光刻类设备工作时，光从投影物镜的顶部入射，经物镜组调节后对待测产品进行曝光处理。但是物镜所处的环境造成其容易受到污染物污染，降低整个物镜组的光透过率，降低成像效果，进而影响被曝光的产品质量。、现有技术通过改变流体的流速，流道形状，大小以及出气方向，使高速进气流均匀分布在物镜表面，形成气帘，来阻止污染物接触物镜。同时使用可替换的保护玻璃，与气帘结合形成双重保护...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。