技术编号：37073117
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体制造设备领域，特别是涉及一种基板提升机构。背景技术、槽式清洗装置能够同时处理多片基板，具有清洗单元和干燥单元。清洗单元包括多个清洗槽，用于盛放不同类型的清洗液，通过不同类型的清洗液对基板进行清洗，以去除基板表面上不同类型的污染物。干燥单元包括盛放diw(去离子水)的储液槽以及位于储液槽上方的干燥腔。清洗槽和储液槽均配置有基板提升机构，用于保持和升降基板。、干燥单元可采用超低压干燥工艺对基板进行干燥。在干燥过程中，高温n(氮气)和高温ipa(异丙醇)蒸汽将被供应至干燥腔，随后...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。