技术编号:37183466
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体设备精密备件清洗的,尤其涉及一种氮化铝陶瓷的清洗方法。背景技术、薄膜沉积设备中陶瓷材质部件的传统清洗方法,一般先使用强碱性化学溶液浸泡进行清洗,这种方法化学反应速度快,去除金属离子速度快,操作方便,再使用弱碱性化学溶液进行浸泡清洗,彻底清除陶瓷孔隙中的残留金属离子。但是虽然碱性溶液对氧化铝材质的陶瓷没有腐蚀性,但对氮化铝材质的陶瓷有腐蚀性,碱性越强对氮化铝陶瓷的腐蚀性也就越强。所以陶瓷的传统化学清洗方法不适用于氮化铝陶瓷的清洗。技术实现思路、本发明旨在解决现有技术的不足,而提...
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