技术编号：3719400
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型为有关一种高压真空吸附的镀膜装置，其包含一主体、一第一盖板、一负压产生装置、一第一喷涂元件及一正压产生装置，主体于一侧处具有一第一容置空间，而第一喷涂元件设于第一容置空间内并与正压产生装置连结配合，再第一盖板设于主体上并对第一容置空间进行空间封闭，又负压产生装置对封闭之第一容置空间进行空气抽取的动作，藉由上述之结构，当进行镀膜之物件放置于第一容置空间内，先将第一容置空间进行真空处理，再将膜料喷涂于第一容置空间内，藉正负压产生的吸附力使膜料更加均匀...
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