技术编号:37217085
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体,尤其涉及一种补液装置及臭氧水分解系统。背景技术、臭氧和臭氧水都具有非常强的氧化能力,在溶液中,臭氧的氧化电位仅比氟低。臭氧水可将溶液中的有机物氧化为ηo和co、有机酸等,金属元素可氧化到最高价。因而,可利用臭氧水的超强氧化能力,在化学清洗中替代ηo。在光伏领域中经常利用臭氧水的氧化能力进行清洗,比如制绒前清洗、制绒后清洗、碱抛后清洗和去绕镀后清洗,同时通过臭氧水的氧化能力,也可适用于杀菌和氧化。、臭氧水在理想条件下自然分解需要几十分钟到数个小时,由于臭氧水对人体有害...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。