技术编号:37278734
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种半导体用超高纯纯净水中痕量金属的检测方法,具体涉及一种集成电路超纯水中超痕量金属钾含量的检测方法,属于化学分析中的仪器分析。背景技术、超纯水是为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,其电阻率大于等于.mω.cm(℃)。在半导体和集成电路的生产中,超纯水主要用于清洗硅片,少量用于制备药液、硅氧化的水蒸气源、一些设备的冷却水、制备电镀液等。随着集成电路(ic)向大规模和超大规模、极大规模的发...
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