技术编号：37279739
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种基板处理方法，更具体地说，涉及一种使用等离子体的基板处理方法。背景技术、等离子体是指由离子、自由基和电子组成的气体离子态，由极高的温度、强电场或高频电磁场产生。半导体组件制造工艺包括利用等离子体去除基板上膜的灰化工艺或蚀刻工艺。灰化工艺或蚀刻工艺是通过等离子体中所含的离子和自由基粒子与基板上的膜发生碰撞或反应来完成的。、灰化工艺或蚀刻工艺在加工室中执行。为了确定已在加工室中完成处理的基板是否有缺陷，作业员必须手动检查基板。当作业员逐个检查每个基板时，检查过程所需的时间会增加，而...
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