技术编号：37353111
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实施例涉及一种溅射靶和一种包括溅射靶的溅射设备。背景技术、随着信息技术发展，作为用户和信息之间的通信媒介的显示装置的重要性日益突出。相应地，诸如液晶显示装置、有机发光显示装置或等离子体显示装置等的显示装置的使用正在增加。、显示装置包括形成在基底上的多个薄膜。用于形成薄膜的方法包括化学气相沉积(cvd)和物理气相沉积(pvd)。在这些方法之中，物理气相沉积包括溅射工艺、热蒸发工艺或电子束蒸发工艺等。、无论基底的材料如何，溅射工艺都具有容易获得薄膜的优点，并且溅射工艺在显示装置的制造工艺中被...
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