技术编号：37379830
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本技术涉及一种降低曝光机内部光线衍射的装置。背景技术、在玻璃黄光车间的生产过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上。其中，曝光是非常重要的一个步骤。首先需要曝光机中放置光罩(mask)，然后光罩和玻璃进行对位，留下图形。而曝光的效果决定了图形实际显示出的效果。、现有的光刻工艺为：光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。