技术编号：37550637
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及载置台和基片处理装置。背景技术、基片处理装置中，在处理容器内具有载置基片的载置台。载置台的底面与配置于载置台的下部的部件之间设置有o形环，将处理容器内的真空空间密封而与载置台下的大气空间隔绝，来维持处理容器内的真空状态。、例如在专利文献中公开了一种技术，其在处理容器内的载置台设置有静电吸附基片的静电吸盘，静电吸盘的底面与配置于静电吸盘的下部的基材之间设置有o形环。、现有技术文献、专利文献、专利文献：日本特开－号公报技术实现思路、发明要解决的技术问题...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。