技术编号：37848211
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于镀膜，具体为提高磁控溅射高反铝中铝膜和介质膜层附着力的工艺方法。背景技术、磁控溅射金属铝薄膜相较于蒸发等其他成膜方式稳定性更高，成膜效率更高，重复性更好，也更有利于大规模产业化和产品大尺寸化。单独镀制金属铝薄膜，反射率要想达到以上难度非常大，为了获得更高的反射率，需要金属铝薄膜叠加多层介质膜来提高反射率以达到高反铝的要求，叠加合适的介质膜膜堆后，反射率可以最高达到以上。另外，单层金属铝薄膜在使用过程中也较易氧化，相应的耐候性如耐盐雾，高温高湿等测试无法过关，叠加介质膜层后，在...
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