技术编号：3785235
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种新型化学机械研磨用研磨剂，其特征在于，包括下列重量份数的物质氧化锆5-7份，二氧化硅11-21份，过氧化氢5-9份，水杨酸盐15-25份，乙烯基双硬脂酰胺7-16份，硬脂酸单甘油酯9-13份，三硬脂酸甘油酯9-14份，还原剂1-3份，柔软剂5-8份，除杂剂7-10份，处理剂11-18份，二氧化钛3-5份，硬脂酸钙1-3份，硬脂酸4-10份，聚丙烯酯5-9份。本发明的有益效果是腐蚀速度低，研磨效果好，对半导体损伤小。专利说明一种新型化学机械研...
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