技术编号:38071681
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体生产设备,具体涉及一种进气喷嘴装置、等离子体刻蚀机以及进气喷嘴的控制方法。背景技术、等离子刻蚀机,应用于半导体行业。等离子体刻蚀机应用到感应耦合等离子体刻蚀法,该工艺是化学过程和物理过程共同作用。它的基本原理是在真空低气压下,icp射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈,以一定比例的混合工艺气体经耦合辉光放电,产生高密度的等离子体,在下电极的rf射频的作用下,这些等离子体对衬底片的表面进行轰击,衬底片图形区域的半导体的化学键被打断,与刻蚀的工艺气体生成挥发性物质,以气体形式脱离衬...
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