技术编号:38071762
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体加工,具体涉及一种等离子体刻蚀机的边缘进气喷嘴装置以及边缘进气控制方法。背景技术、请参考图,图为本申请实施例中等离子体刻蚀机的示意图。、等离子体刻蚀机包括反应腔室,反应腔室的壳体包括筒形结构和位于筒形结构顶部的腔盖,腔盖支撑有耦合窗,反应腔室内设置有下电极,晶圆放置在下电极上表面,下电极连接至下射频,安装在耦合窗上部的耦合线圈连接至上射频,中心喷嘴安装在耦合窗的中心位置,工艺气体由外部管路通入中心喷嘴中,然后从中心喷...
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