技术编号:38457743
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请涉及光学校正,尤其涉及一种掩模版校正方法、装置、计算机设备及可读存储介质。背景技术、掩模版是指在半导体制造过程中使用的包含电路设计图形的镂空模板,在光刻过程中,光源发出的光通过掩模版上的图像,投影到覆盖有感光材料的晶圆上,以此在晶圆上形成投影图形。而由于光学邻近效应,实际投影到晶圆上的图形形状常常会出现变形,变形直接影响了芯片的制造准确性和质量。、相关技术中,为了克服光学邻近效应,一般通过对掩模版的图像结构图像划分为多个图像片段,并对每个图像片段依次进行边缘放置误差和工艺变化带宽的校正...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
请注意,此类技术没有源代码,用于学习研究技术思路。