技术编号：38504434
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本技术涉及光刻胶生产设备，具体是指一种光阻剂烘干装置。背景技术、光阻剂是一个用在许多工业制程上的光敏材料，光阻有两种，正向光阻和负向光阻，很多半导体生产过程中需要在其表面均匀的喷涂光阻液，将光阻液烘干后形成电阻层；现有的光阻烘箱，大多是采用热光对产品表面进行烘烤，但产品的正面和背面经常由于烘烤时受热时间的差异和次序的不同导致表面电阻层有缺陷，不能满足使用需求。技术实现思路、为解决上述技术问题，本实用新型提供的技术方案为：一种光阻剂烘干装置，包括烘干箱以及传送带，所述传送带上部贯穿烘干箱，底部...
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