技术编号：38874234
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体基板清洗剂组合物和利用其的半导体基板清洗方法。背景技术、半导体器件需要经历包括在硅晶圆等的基板上形成电路图案的光刻(photolithography)工艺在内的多种工艺来制造，而在这种制造过程中产生颗粒、有机污染物、金属杂质等的多种异物。由于这种异物会对基板引发缺陷，因此作用为对半导体器件的良率产生直接影响的因素。因此，在半导体制造工艺中必然伴随着用于去除这种异物的清洗工艺。、尤其是，随着半导体装置的高集成化，在使用的双重图案化技术(doublepatterning tech...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。