技术编号：39174587
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本技术涉及半导体设备，特别涉及一种隔离装置及刻蚀设备。背景技术、在半导体刻蚀设备中，分有传送腔室和反应腔室，两者相互独立，但两个腔室使用通道连接。在芯片刻蚀过程中需要将反应腔室与传送腔室的连通通道隔开，用于阻挡等离子体的扩散，使芯片在刻蚀过程中有固定容积的反应腔室，shutter(隔离挡板)机构在反应腔室中起到此作用。、反应腔室在刻蚀过程中是处于高真空状态，由于shutter机构是运动部件，鉴于密封性要求，需要在shutter机构中的shutter杆一定位置处安装密封圈，并涂抹润滑油。、然...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。