技术编号：39176881
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本申请涉及硅片抛光，尤其是涉及一种抛光垫修整装置、最终抛设备及修整方法。背景技术、最终抛光是对晶圆正面进行抛光的工艺，通过压力将晶圆压在抛光垫上，通过抛光垫的相对旋转完成抛光过程；在实际使用过程中，抛光垫会因长时间的使用和磨损而出现不平整、磨损不均等问题，进而影响抛光效果，因此需要对抛光垫进行及时、有效的修整以提高抛光质量和延长抛光垫使用寿命。、在抛光垫修整过程中，首先需要对抛光垫表面进行磨削，接着在抛光垫表面刻画细纹，使抛光垫表面达到使用需求，在抛光过程中，抛光垫本身及修整工具在修整过程中...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。