技术编号:39328644
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于光响应材料化学和光学领域,尤其涉及一种光敏复合材料、和一种上转换纳米粒子辅助的近红外激光三维直写方法及装置。背景技术、随着科学技术的迅速发展,社会诸多行业研发生产和过程中对于精密三维微纳结构的需求日益显著,涵盖了光学器件、生物医学、纳米电子学等多个领域。在这种背景下,双光子直写技术因其使用近红外光的穿透深度优势以及其出色的非线性光学性能,被应用于三维微纳结构制造。通过近红外激光直接写入光敏材料,在激光聚焦点处发生局部光反应并随着聚焦点的三维移动,可以实现对各种形状和结构的精确控制,从...
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