技术编号：40017963
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于光电材料，具体涉及一种高透光、低发射率的银纳米线薄膜的制备方法。背景技术、在红外成像领域，红外低发射率材料可以用于制造红外相机和热成像设备，这些材料能够减少设备本身在红外波段的热辐射，提高成像设备的灵敏度和分辨率，红外低发射率材料的透光率是另一个重要考量因素。透光率指的是材料对可见光的透过程度，即光线通过材料时的能量损失。具有较高透光率的红外低发射率材料能够兼容红外-可见光波段的辐射，增强设备对目标的探测和成像能力。、在红外伪装领域，红外低发射率材料可以用于制造红外伪装涂层和材料，...
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