技术编号：40048143
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于在光刻工艺中将图案施加到衬底的方法和装置。背景技术、光刻装置是将期望的图案施加到衬底上(通常施加到衬底的目标部分上)的机器。光刻装置可以被用于例如集成电路(ic)的制造中。在该实例中，图案形成设备(备选地被称为掩模或掩模版)可以被用于生成要被形成在ic的单独的层上的电路图案。该图案可以被转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括部分裸片、一个裸片或若干裸片)上。图案的转印通常经由成像到在衬底上提供的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。