技术编号：40729452
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本公开涉及检查系统，例如用于测量光刻过程中使用的目标标记的量测系统。背景技术、光刻设备是将期望的图案施加至衬底上（通常施加至衬底的目标部分上）的机器。光刻设备可以用于例如集成电路（ic）的制造中。在那种情况下，图案形成装置（图案形成装置可以是掩模或掩模版）可以用以产生待形成在ic的单独的层上的电路图案。这种图案可以被转印至衬底（例如，硅晶片）上的目标部分（例如，包括管芯的部分、一个管芯或若干管芯）上。图案的转印通常经由成像至被设置在衬底上的辐射敏感材料（光致抗蚀剂或简称“抗蚀剂”）层上。通常，...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。