技术编号：41498867
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于真空镀膜领域，特别涉及到了一种立式连续真空镀膜设备。背景技术、真空镀膜设备是一种利用真空镀膜技术以对工件进行真空镀膜的设备，其在进行加工时，利用电子束、分子束、离子束、等离子束、射频或磁控等一系列技术，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其凝结并沉积在工件表面，以形成薄膜。随着技术创新的不断推进，真空镀膜设备经历了从单镀膜腔式到多镀膜腔式连续真空镀膜设备的演变。这一转变不仅显著提升了生产效率，还极大地改善了薄膜质量，并在成本控制方面取得了突破性进展。、如在先专利所公开的一...
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