技术编号：4870517
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种纯水供应系统和清洗系统以及使用该纯水的清洗方法。背景技术 在半导体制造工序中，在清洗工序中使用大量纯水。另一方面，半导体器件和布线图形的快速小型化迫切需要在清洗工序中使用高度净化的水，因为清洗工序中产生的颗粒会减小产品成品率。此外，为了防止硅晶片上的自生氧化膜形成，通常通过N2除气从纯水除去溶解的氧气。但是，通过N2除气已除去溶解氧气的纯水包含以饱和态溶解的氮气，以致在湿法清洗中可能产生气泡。为了防止该情况，需要去除所有溶解气体。近年来，已经...
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