技术编号：4903804
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于半导体，液晶，精密电子部件的制造工厂等的发生离子性气体状污染物质的净化间、以及发生离子性气体状污染物质的装置的、除去离子性气体状污染物质的空气净化用的。背景技术 在半导体制造、液晶制造等尖端产业，为了确保产品的成品率或质量、可靠性，在净化间内的空气或产品表面的污染控制是非常重要的。特别是在半导体产业领域，随着产品的高集成度的进展，除利用HEPA、ULPA等的粒子状污染物质的控制之外，离子性气体状污染物质的控制是不可或缺的。在本发明中，所谓离子...
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