技术编号:4960517
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一种半导体废气的处理设备,包含一连接于一半导体加工设备的入口洗涤单元、一与该入口洗涤单元连通的反应单元、一与该反应单元连通的出口洗涤单元,及一水槽单元。该入口洗涤单元用于洗涤该半导体加工设备所排出的废气,该反应单元是对废气进行加热分解处理,该出口洗涤单元是用于洗涤废气并将废气排出。该水槽单元包括一与该入口洗涤单元、出口洗涤单元连通的水槽,一用于排水的排水管,及一设置于该排水管中的排水比例阀,该排水比例阀能在一开启过程中使排水量渐渐增加至一定值,而在一关闭过...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。