技术编号：5012150
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于微电子工业的高纯化学品的制备方法和装置，它们通过在超纯水中溶解至少一种化学气体而实现。为了制备超纯化学品，例如氨水，盐酸和氢氟酸，已知可以分别使用“工业”级无水氨气，氯化氢气体和氟化氢气体并纯化它们，尤其可在装有用高纯去离子水中的同样气体的饱和溶液的塔中清洗来除去金属杂质而使之纯化。例如专利申请WO96／39265公开了这类技术。上述专利申请所述的技术已经向前迈出了重要的一步，它们可用于允许生产更小集成电路的超纯化学品的集成电路生产场地中...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。